产品介绍
激光加热器利用激光直接加热样品台或样品，加热功率集中，对真空的影响小；升温/降温速率快；特别适用于具有氧气的氛围。激光加热器可用于脉冲激光沉积系统（PLD）,分子束外延系统（MBE）,磁控溅射（Sputter）,电子束蒸发（EBE）等超高真空系统设备。
主要技术参数：
1）加热温度不低于1500℃（适用于氧气环境）
2）红外测温仪实时监控温度
3）温度稳定性：± 0.1℃
4）适用于不同尺寸样品
5）加热器所需安装空间小，360°任意位置安装
6）最小安装法兰：CF35
7）适合大气环境和（超）高真空工作环境
8）可手动和自动升温
激光入射法兰 激光加热实拍 激光加热控制器
功率-温度曲线
