产品介绍
脉冲激光沉积，是一种利用激光高能量脉冲辐射冲击固体靶时，激光与物质之间的所有物理相互作用，亦包括等离子羽状物的形成，其后已熔化的物质通过等离子羽状物到达已加热的基片表面的转移，及最后物质沉淀在不同的衬底上，得到沉淀或者薄膜的一种手段。
PLD非常适合生长多元氧化物的多层膜和异质膜，轻松实现对化学成分较复杂的复合物材料进行材料生长。在生长过程中还可以实现引入活性或惰性及混合气等工艺气体，以提高薄膜生长品质。
主要技术参数：
1）衬底尺寸：10mm*10mm（旗型样品托）、2英寸
2）衬底加热温度室温至850℃（选用激光加热可达1200℃），控温精度±0.1℃，旋转速率0-20rpm
3）靶台形式：公转自转式或扫描式靶台可选,防交叉污染挡板设计
4）可以实现原位的更换靶材
5）集成3-4路MFC气路稳压系统，可进行反应沉积，稳压上控法与下控法可选
6）沉积腔室本底真空：高真空（10-8Torr量级）或超高真空（10-10Torr量级）可选
6）RHEED在线表征可选
