•  激光脉冲沉积系统(PLD)
激光脉冲沉积系统(PLD)

产品介绍

        脉冲激光沉积,是一种利用激光高能量脉冲辐射冲击固体靶时,激光与物质之间的所有物理相互作用,亦包括等离子羽状物的形成,其后已熔化的物质通过等离子羽状物到达已加热的基片表面的转移,及最后物质沉淀在不同的衬底上,得到沉淀或者薄膜的一种手段。

        PLD非常适合生长多元氧化物的多层膜和异质膜,轻松实现对化学成分较复杂的复合物材料进行材料生长。在生长过程中还可以实现引入活性或惰性及混合气等工艺气体,以提高薄膜生长品质。

主要技术参数:

1)衬底尺寸:10mm*10mm(旗型样品托)、2英寸
2)衬底加热温度室温至850℃(选用激光加热可达1200℃),控温精度±0.1℃,旋转速率0-20rpm
3)靶台形式:公转自转式或扫描式靶台可选,防交叉污染挡板设计
4)可以实现原位的更换靶材
5)集成3-4路MFC气路稳压系统,可进行反应沉积,稳压上控法与下控法可选
6)沉积腔室本底真空:高真空(10-8Torr量级)或超高真空(10-10Torr量级)可选
6)RHEED在线表征可选